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flash闪存的特点是存取速度_FLASH闪存的七种类型详细资料说明

2024-05-27 15:16:57科技漂亮的斑马

闪存是一种非易失性存储器,即断电时数据不会丢失。因为使用闪存的数码产品是闪存,不像RAM(随机存取存储器),不能替代RAM。闪存卡是利用闪

flash闪存的特点是存取速度_FLASH闪存的七种类型详细资料说明

闪存是一种非易失性存储器,即断电时数据不会丢失。因为使用闪存的数码产品是闪存,不像RAM(随机存取存储器),不能替代RAM。

闪存卡是利用闪存技术存储电子信息的存储器。一般在数码相机、掌上电脑、MP3等小型数码产品中作为存储介质,所以看起来像一张卡片,所以叫闪存卡。根据不同的厂商和不同的应用,闪存卡包括SmartMedia(SM卡)、Compact Flash(CF卡)、MultiMediaCard(MMC卡)、Secure Digital(SD卡)、Memory Stick(记忆棒)、XD-Picture卡(XD卡)和MICRODRIVE。虽然外观和规格不同,但技术原理是一样的。

NOR闪存和NAND闪存有很大的区别。比如NOR闪存更像。

单片闪存

内存,有独立的地址线和数据线,但是价格比较贵,容量比较小;NAND型更像硬盘,地址线和数据线共用一条I/O线。所有类似硬盘的信息都是通过一条硬盘线传输的,与NOR型闪存相比,NAND型成本更低,容量也大得多。所以NOR闪存更适合频繁随机读写,通常用来存储程序代码,直接在闪存中运行。手机是NOR闪存的大用户,所以手机的“内存”容量通常不大;NAND闪存主要用于存储数据,我们常用的闪存产品,如闪存盘、数码存储卡等,都使用NAND闪存。这里我们还需要纠正一个概念,那就是闪存的速度其实是非常有限的,它本身的运行速度和频率都比内存低很多,类似硬盘的NAND闪存的运行效率也比直接访问内存慢很多。所以,不要认为优盘的性能瓶颈是接口,甚至想当然的认为使用USB2.0接口后优盘的性能会有很大提升。

如前所述,NAND闪存的运行模式效率低下,与其架构设计和接口设计有关。它真的像硬盘一样运行(其实NAND闪存在设计之初确实考虑了与硬盘的兼容性),性能特点也与硬盘非常相似:小数据块的运行速度很慢,而大数据块的速度却很快,远大于其他存储介质。这个表现特点非常值得我们关注。

闪存访问速度更快,无噪音,散热更少。如果对用户空间容量需求不大,打算买的话,可以不考虑太多就买闪存。如果需要大容量空间(比如500G),买个硬盘,便宜点,也能满足用户应用的需求。

解释闪存的存储原理,要从EPROM和EEPROM说起。

EPROM是指内容可以通过特殊手段擦除,然后重写。其基本单元电路(存储单元)往往采用浮栅雪崩注入MOS电路,简称FAMOS。类似于MOS电路,在N型衬底上生长两个高浓度P型区,通过欧姆接触分别引出源极S和漏极D。在源极和漏极之间,有一个浮在二氧化硅绝缘层中的多晶硅栅极,它与周围没有直接的电连接。在这个电路中,浮栅是否充电用来表示1或0的存储。浮栅充电(如负电荷)后,源漏间感应出正导电沟道,使MOS管导通,意味着0的存储。如果浮栅不充电,不形成导电沟道,MOS管不导通,即存储1。

EEPROM基本存储单元电路的工作原理如下图所示。类似于EPROM,它在EPROM基本单元电路的浮栅之上生成一个浮栅,前者称为第一级浮栅,后者称为第二级浮栅。第二级浮栅可以引出一个电极,使得第二级浮栅连接到某个电压VG。如果VG为正电压,则在第一浮栅和漏极之间产生隧道效应,使得电子注入第一浮栅,即编程和写入。如果VG设置为负电压,第一级浮栅中的电子将被耗散,即被擦除。擦除后可以重写。

闪存的基本单元电路和EEPROM类似,也是由双层浮栅MOS管组成。然而,第一层栅极电介质非常薄,并且充当隧道氧化物层。写入方法与EEPROM相同,向第二浮栅施加正电压,使电子进入第一浮栅。读取方法与EPROM相同。擦除方法是对源极施加正电压,利用第一级浮栅与源极之间的隧穿效应,将注入浮栅的负电荷吸引到源极。因为源极是用正电压擦除的,每个单元的源极是连在一起的,所以闪存不是按字节擦除,而是按整个芯片或块擦除。后来随着半导体工艺的提高,闪存也实现了单晶体管(1T)的设计,主要是在原有的晶体管上增加了浮栅和选择栅。

用于存储电子的浮栅形成在半导体上,在源极和漏极之间具有单向电流传导。浮栅被氧化硅薄膜绝缘体包裹。在其上方是控制源极和漏极之间传导电流的选择/控制栅极。数据是0还是1取决于在硅衬底上形成的浮栅中是否有电子。电子是0,电子是1。

闪存,顾名思义,在写入之前删除数据进行初始化。具体来说,从所有浮栅中提取电子。一些数据将返回到“1”。

数据为0时只写,数据为1时什么都不做。当写入0时,高电压被施加到栅电极和漏电极,增加了在源电极和漏电极之间传导的电子能量。这样电子就会突破氧化膜绝缘体进入浮栅。

读取数据时,在栅电极上施加一定的电压,电流大时为1,小时为0。当浮栅中没有电子时(数据为1),在栅电极上加电压时,漏极上加电压,由于大量电子的运动,源漏之间会产生电流。但当浮栅中有电子时(数据为0),沟道中传导的电子会减少。因为施加到栅电极的电压被浮栅电子吸收,所以很难影响沟道。

闪存的英文名是‘FLASH Memory’,一般缩写为‘FLASH’。它属于一种存储器件,是非易失性存储器。闪存的物理特性与普通内存有着本质的区别:目前各种DDR、SDRAM或RDRAM都属于易失性内存,只要停止电流供应,内存中的数据就无法维持,所以每次开机都需要将数据重新载入内存;闪存可以在没有电流供应的情况下长时间保存数据,其存储特性相当于硬盘,这是闪存成为各种便携式数码设备存储介质的基础。

闪存是一种非易失性存储器,可以擦除和重新编程称为块的存储单元块。任何闪存设备的写入操作都只能在空的或已擦除的单元中进行,因此在大多数情况下,必须在写入操作之前进行擦除。NAND设备执行擦除操作非常简单,而NOR要求目标块中的所有位在擦除前都应写入0。由于擦除NOR设备是以64 ~ 128 KB的块为单位执行的,所以执行写/擦除操作的时间是5ms,而擦除NAND设备是以8 ~ 32 KB的块为单位执行的,执行相同的操作最多只需要4ms。擦除时块大小的差异进一步扩大了NOR和NADN之间的性能差距。统计表明,对于给定的一组写操作(尤其是在更新小文件时),必须在基于NOR的单元中执行更多的擦除操作。因此,在选择储物解决方案时,设计师必须权衡以下因素。它结合了ROM和RAM的优点,不仅具有电可擦可编程的性能,而且不会因断电而丢失数据,具有数据读取速度快的特点。在如今眼花缭乱的电子市场上,各种不同功能的闪光灯层出不穷,但你了解多少呢?为了让你对Flash有更多的了解,今天我们主要根据芯片的通信协议和Flash的特点给你一个全新的认识。

NOR读取速度比NAND稍快。

NAND的写入速度比NOR快很多。

NAND的4ms擦除速度比NOR的5ms快很多。

大多数写操作需要先擦除。

NAND的擦除单元更小,对应的擦除电路更少。

NOR flash有SRAM接口,有足够的地址引脚寻址,可以轻松访问其中的每一个字节。

NAND设备使用复杂的I/O口串行访问数据,不同产品或厂商的方法可能不同。八个引脚用于传输控制、地址和数据信息。

NAND读写操作使用512字节块,有点像硬盘管理。自然,基于NAND的内存可以取代硬盘或其他块设备。

NAND flash的单位尺寸几乎是NOR器件的一半。因为生产工艺更简单,NAND结构可以在给定的模具尺寸内提供更高的产能,相应的降低了价格。

NOR flash以1 ~ 16mb的容量占据了大部分闪存市场,而NAND flash仅用于8MB~128GB容量的产品,这也说明NOR主要用于代码存储介质,NAND适用于数据存储,NAND在CompactFlash、Secure Digital、PC卡、MMC存储卡市场份额最大。

可靠性

使用闪存介质时,要考虑的一个关键问题是可靠性。对于需要扩展MTBF的系统,闪存是一种非常合适的存储方案。NOR和NAND的可靠性可以从寿命(耐久性)、比特交换和坏块处理三个方面进行比较。

持久性

在NAND闪存中,每个块被擦除的最大次数是一百万次,而NOR的次数是十万次。除了10比1的块擦除周期的优点之外,典型的NAND块大小比NOR器件的大小小8倍,并且每个NAND存储器块在给定时间内具有更少的擦除次数。

比特交换

所有闪存设备都受到位交换现象的困扰。在某些情况下(很少,NAND比NOR更常见),一个位将被反转或被报告为反转。

一个位的变化可能不明显,但如果发生在一个关键文件上,这个小故障就可能导致系统停止。如果只是报告有问题,看几遍可能就解决了。

当然,如果这个位真的改变了,就必须采用检错/纠错(EDC/ECC)算法。位反转的问题在NAND闪存中比较常见,NAND供应商建议在使用NAND闪存时同时使用EDC/ECC算法。

当使用NAND存储多媒体信息时,这个问题不是致命的。当然,如果本地存储设备用于存储操作系统、配置文件或其他敏感信息,则必须使用EDC/ECC系统来确保可靠性。

坏块处理

NAND设备中的坏块是随机分布的。之前也有过淘汰坏块的努力,但是发现良品率太低,价格太高,不划算。

NAND设备需要对介质执行初始扫描,以找到坏块并将坏块标记为不可用。在制造的器件中,如果这种处理不能通过可靠的方法进行,将导致高的故障率。

使用方便

你可以非常直接的使用基于NOR的闪存,像其他内存一样连接,直接在上面运行代码。因为需要I/O接口,NAND就复杂多了。各种NAND设备的访问方法因制造商而异。使用NAND设备时,必须先写入驱动程序,然后才能继续其他操作。向NAND设备写入信息需要相当的技巧,因为设计人员绝不能写入坏块,这意味着必须从头到尾在NAND设备上进行虚拟映射。

软件支持

在讨论软件支持时,我们应该区分基本的读/写/擦除操作和更高级的磁盘模拟和闪存管理算法的软件,包括性能优化。在NOR设备上运行代码不需要任何软件支持。在NAND设备上做同样的操作,通常需要驱动,也就是内存技术驱动(MTD)。NAND和NOR设备都需要MTD来进行写入和擦除操作。使用NOR器件时所需的MTD相对较少。许多制造商为NOR设备提供更先进的软件,包括M-System的TrueFFS驱动程序,这种驱动程序被Wind River System、微软、QNX软件系统、Symbian和Intel等制造商采用。

一、 IC EEPROM

IIC EEPROM,采用IIC通信协议;IIC通信协议有以下特点:简单的两条总线,一条串行数据线(SDA)和一条串行时钟线(SCL);串行半双工通信模式下8位双向数据传输,标准模式下比特率可达100k bit/s;电可擦除可编程只读存储器在断电后不会丢失数据。由于芯片可以支持单字节擦除,而且支持擦除的次数非常多,所以一个地址位可以重复擦除的理论值是100万次,在实际应用中有着不可替代的作用。日常生活中经常接触到的芯片型号有at 24 c 02、 fm24c 02、 cat 24 c 02等。常见的封装有DIP8、SOP8、TSSOP8等。

二、SPI NorFlash

SPI NorFlash,采用SPI通信协议,有4线(时钟,两条数据线,芯片选线)或3线(时钟,两条数据线)通信接口。因为它有两条数据线实现全双工通信,所以比IIC通信协议中的IIC EEPROM快得多。SPI NorFlash具有NOR技术闪存的特点,即程序和数据可以存储在同一个芯片上,有独立的数据总线和地址总线,可以快速随机读取,允许系统直接从Flash中读取代码执行;可以单字节编程,也可以单字编程,但不能单字节擦除。它必须在扇区或整个芯片中被擦除。在对存储器重新编程之前,有必要对扇区或整个芯片进行预编程和擦除。NorFlash在擦除次数上无法到达IIC EEPROM,并且由于NOR闪存的擦除和编程速度较慢,块大小较大,所以擦除和编程操作需要较长时间。而SPI NorFlash接口简单,使用的管脚少,易于连接,操作方便,代码可以直接在芯片上运行。其稳定性优异,传输速率高,在容量较小的情况下具有较高的性价比,非常适合作为嵌入式系统中的FLASH ROM使用,因此其市场占有率非常高。常见的如s25fl 128、 MX 25 l 1605、 w25 q 64等型号为SPI NorFlash,常见的封装有SOP8、SOP16、WSON8、US0N8、QFN8、BGA24等。

三、平行NorFalsh

并行NorFlash又称并行NORflash,采用独立数据线和地址总线的并行接口通信协议,也继承了nor技术闪存的所有特性;由于并行接口。与SPI NorFlash相比,并行NorFalsh支持更大的容量和更快的读写速度,但由于占用了太多的地址线和数据线,占用了电路电子设计中的大量资源。并行NorFalsh的读写时序和SRAM差不多,但是写的次数少,速度慢。由于其读取时序类似于SRAM,读取地址也是线性的,所以多用于不需要频繁改变程序代码的数据存储。

我们平时看到的型号,比如s29gl 128、 MX 29gl 512、 SST 39 VF 020,都是并联的NorFlash,常见的封装有TSSOP 32、 TSOP 48、 BGA 64,PLCC32等等。

四、并行NandFlash

并行NandFlash也采用并行接口通信协议,进程中的NandFlash有三种:SLC、MLC和TLC。NandFlash技术闪存具有以下特点:以页为单位进行读取和编程操作,以块为单位进行擦除操作;具有快速编程和快速擦除功能,其块擦除时间为2ms,而NOR技术的块擦除时间达到几百ms;芯片尺寸小,引脚少,是固态存储器中位成本最低的。芯片包含坏块,坏块的数量取决于内存密度。坏块不会影响有效块的性能,但是设计师需要有一套坏块管理策略!与并行NorFalsh相比,NandFlash的擦除、读写速度更快,使用的擦除次数更多,而且它强调的是更高的性能、更低的成本、更小的体积、更大的容量和更长的使用寿命。这使得NandFlash非常擅长存储纯素材或数据,用于支持嵌入式系统中的文件系统。主要用于数据存储,大部分u盘使用NandFlash。目前,NandFlash仍广泛应用于嵌入式产品中,因此坏块管理和掉电保护等措施需要使用出厂软件进行改进。

我们平时看到的S34ML01G100、MX30LF2G18AC、MT29F4G08ABADA等型号都是并行NandFlash,常见的封装有TSOP 48、 BGA 63、 BGA 107、BGA137等。

五、SPI NandFlash

SPI NandFlash与SPI NorFlash采用相同的SPI通信协议,读写速度没有区别,但在存储结构上采用与并行NandFlash相同的结构,所以SPI nand与SPI norFlash相比具有擦除次数更多、擦除速度更快的优点,但在使用和使用过程中也会出现与并行NandFlash一样的坏块,所以也需要特殊的坏块处理才能使用。与并行NandFlash相比,SPI NandFlash还有一个重要特点,即芯片内部自带ECC纠错模块,用户无需使用ECC算法计算纠错,用户在系统应用中可以简化代码,操作简便;我们平时看到的型号都是SPI NandFlash,比如W25N01GVZEIGGD5F4GQ4UBYIG和F50L1G41A,常见的封装有QFN8、BGA24。

六、eMMC闪存

EMMC采用统一的MMC标准接口,集成MMC控制器本身,存储单元与NandFlash相同。根据闪存的特性,eMMC的产品已经包含了闪存管理技术,包括错误检测和纠正、闪存平均擦除、坏块管理、掉电保护等技术。MMC的接口速度高达每秒52m字节,eMMC具有快速和可扩展的性能,接口电压可为1.8v或3.3v,EMMC相当于NandFlash主控IC,外部接口协议与SD、TF卡相同,主要针对手机或平板电脑的嵌入式内存标准规范。eMMC的一个明显优势是在封装中集成了一个控制器,提供标准接口,管理闪存,让手机厂商可以专注于产品开发的其他部分,缩短上市时间。这些特性对于想要降低光刻尺寸和成本的NAND供应商同样重要。EMMC由带有MMC(多媒体卡)接口的嵌入式存储解决方案、Nand Flash和主控制器组成,全部在一个小型BGA封装中,最常见的是BGA153封装。我们平时看到的型号,比如KLMAG8DEDD,THGBMAG8B4JBAIM,EMMC04G-S100,都是eMMC Flash。EMMCFlash的存储容量很大,32GByte的容量是市面上常见的。常见的封装有BGA 153、 BGA 169、 BGA 100等。

七、USF2.0

JEDEC于2013年9月发布了新一代通用闪存标准USF2.0。该标准下的闪存读写速度可高达每秒1400MB,相当于两秒钟读写两张光盘的数据。它不仅比eMMC有更大的优势,而且使计算机中使用的闪存存储介质固态驱动器相形见绌。UFS闪存规范采用了新的标准2.0接口,它使用串行接口,很像PATA和SATA之间的转换,并且它支持全双工操作,同时读写操作,还支持指令队列。相比之下,eMMC是半双工,读写必须分开进行,指令打包,在速度上已经略逊一筹。而且UFS芯片不仅传输速度快,功耗也是eMMC5.0的一半,可以说是未来旗舰手机闪存的理想搭配。目前,只有少数半导体制造商提供封装产品,如三星和东芝电子。

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